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インプラント 静脈上顎洞炎の源
  • インプラント埋入によるわずかな上顎洞の膜の穴あけが自然に回復できるのが知られています。 いくつかの調査研究を調べるのはインプラント浸透の長さがインプラント埋入の後に膜の穴あけの自然治癒を抑制するかもしれないという証拠を全く提供しませんでした。 インプラントが2mm未満の上顎洞の床の粘膜に入り込んだときの1つの研究では、上顎洞の粘膜があるインプラントの自然発生的な覆いは現れました。 他方では、インプラントが4mm以上の上顎洞の床の粘膜に入り込んだとき、上顎洞の空上顎洞に広がるインプラントの先端部は増加している腔の膜で覆われていませんでした。 したがって、私たちは、上顎洞の空上顎洞にはみ出るインプラントが、異物として機能して、炎症と静脈上顎洞炎の源になるかもしれないと予想するかもしれません。 しかしながら、病理学的所見のサインは全く両方の4mmの、または、8mmの上顎洞を鋭いインプラント面での上顎上顎洞空上顎洞のどれかでのこの研究で観測されませんでした。 これらの結果は、上顎洞の空上顎洞へのインプラント露出が上顎洞の複雑さの開発に関連しないのを示します。 鼻腔へのインプラント拡大がrhinosinusitisをもたらすことができると報告されました。 この複雑さのための最もありそうな説明は、変えられた鼻の気流が鼻粘膜のいらだちを引き起こすかもしれないということです。 さらに、炎症を起こして、粘膜繊毛の小道のインプラント封鎖で鼻音のクリアランスを擾乱できるでしょう。 上顎上顎洞空上顎洞へのインプラント拡大で上顎上顎洞粘膜の正規曲線を変更して、複雑さに傷つきやすくなるのは、可能です。 1つの研究では、残骸は腔の膜で覆われていなかった上顎洞の空上顎洞に広がるインプラントの露出している表面に蓄積しました。 インプラントの周りの腔の膜は少しの炎症徴候も見せませんでした。 これはインプラントへの膜のダイレクト付属によって説明されるかもしれません、上顎洞の空上顎洞にバリアを形成して。 腔の膜で覆われていなかった部品に関して、私たちは、時間がたつにつれて、残骸蓄積の増加を予想するかもしれません。

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